786 为低磷化学镀镍工艺，有极佳的稳定性。镀层柔韧好，有较高的熔点（1250 ℃），很高的硬度（640 - 700 HV100），导电率好，适用于钎焊性要求高及一般工程的使用，沉积速率 15 - 20μm/h，很宽的温度范围 60 - 85 ℃，它用途广泛，可用在含碳钢、不锈钢、铜合金、钛、铝合金及绝缘体如塑料和陶瓷品上。786 工艺稳定性好，操作及维护简单，786 工艺分别以 786A 和 786B 配制新槽，以 786B 和 786C 为补充剂维护镀液，长期停产时加入 786 调整剂以稳定镀液。
